25 kg Glasperlen Strahlmittel 425-850 µm
Produktbeschreibung:
Hochwertiges Feinstrahlmittel für die schonende Oberflächenreinigung und -verdichtung sowie zur Reduzierung der gegebenen Oberflächenrauheit. Zertifikate/Merkmale: ISO 9001:2000 CE TÜV (Prüfung auf Schwermetalle) Gesundheitlich ungefährlich, keine Silikosegefahr
Physikalischen Eigenschaften (Richtwerte):
Spezifisches Gewicht: 2,5 kg/l
Schütgewicht: 1,50 kg/l
Härte nach Mohs: 6,0
Schmelztemperatur: 1.400 °C
Erweichungstemperatur: 800 °C
Chemische Zusammensetzung (Richtwerte):
keine schädlichen Beimengen
Strahlsysteme:
für alle gängigen Strahlsysteme geeignet Injektor- und Druckstrahlanlagen Nass- und Trockenstrahlverfahren
Standzeit:
ca. 7-10 Umläufe (u. a. abhängig vom Arbeitsdruck)
Anwendungsbebiete:
Mattieren, entsanden, entrosten, entzundern Reinigen, Oberflächenfinish, Oberflächenveredelung Entfernen von Rückständen, entgraden, strukturstrahlen, shot peening, usw.
Hochwertiges Feinstrahlmittel für die schonende Oberflächenreinigung und -verdichtung sowie zur Reduzierung der gegebenen Oberflächenrauheit. Zertifikate/Merkmale: ISO 9001:2000 CE TÜV (Prüfung auf Schwermetalle) Gesundheitlich ungefährlich, keine Silikosegefahr
Physikalischen Eigenschaften (Richtwerte):
Spezifisches Gewicht: 2,5 kg/l
Schütgewicht: 1,50 kg/l
Härte nach Mohs: 6,0
Schmelztemperatur: 1.400 °C
Erweichungstemperatur: 800 °C
Chemische Zusammensetzung (Richtwerte):
| Sliziumoxid | 72,1 % |
| Kalziumoxid | 6 % |
| Natriumoxid | 15 % |
| Aluminiumoxid | 2,2 % |
| Eisenoxid | max. 0,2 % |
| Manganoxide | 4 % |
| Schwefeloxide | 0,5 % |
Strahlsysteme:
für alle gängigen Strahlsysteme geeignet Injektor- und Druckstrahlanlagen Nass- und Trockenstrahlverfahren
Standzeit:
ca. 7-10 Umläufe (u. a. abhängig vom Arbeitsdruck)
Anwendungsbebiete:
Mattieren, entsanden, entrosten, entzundern Reinigen, Oberflächenfinish, Oberflächenveredelung Entfernen von Rückständen, entgraden, strukturstrahlen, shot peening, usw.
| Versandgewicht: | 25,46 Kg |
| Artikelgewicht: | 25,00 Kg |
| Inhalt: | 25,00 kg |
